Research-磁控濺射鍍膜設(shè)備 真空鍍膜機
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最后更新：2025-11-15
關(guān) 注 度：426
生產(chǎn)企業(yè)：四川超邁智能裝備有限公司
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產(chǎn)品詳細介紹該設(shè)備用于納米級單層或多層膜、類金剛石薄膜、金屬膜、導電膜、半導體膜和非導電膜等功能薄膜的制備，可實現(xiàn)共濺射，直流、射頻兼容，特別適于科研院所和企業(yè)進行功能薄膜研發(fā)、教學和新產(chǎn)品開發(fā)，同時可在微米級粉末或顆粒上沉積薄膜進而達到表面改性的功能。是替代鐘罩式磁控濺射的理想選擇。
主體結(jié)構(gòu)。全封閉框架結(jié)構(gòu)，機柜和主機為一體式機構(gòu)。
極限真空度。≤６.６３×10－5Pa，壓升率優(yōu)于國家標準。
真空配置。高速直聯(lián)旋片泵一臺，配置尾氣處理裝置，超高分子泵一臺。 |
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