美國(guó)托爾國(guó)際磁控濺射系統(tǒng)
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最后更新：2015-01-28
關(guān) 注 度：4853
生產(chǎn)企業(yè)：天津冠世緣科技發(fā)展有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹配置方案：
該配置方案是基于薄膜沉積的多槍濺射系統(tǒng)。腔室采用最佳的D字型設(shè)計(jì)，這種設(shè)計(jì)可以更方便的靠近濺射槍，方便更換靶材和基片樣品。更重要的是這種設(shè)計(jì)可以使腔體小型化，靈活方便，也可以使任何組件和樣品方便進(jìn)出，達(dá)到最佳的尺寸和便利性的結(jié)合。300L/S的大抽速分子泵，可以在15分鐘
內(nèi)使真空度達(dá)到開始沉積模式，40分鐘內(nèi)真空度好于10-6 Torr，極限真空10-7Torr。
比較重要的一點(diǎn)，磁靶之間要避免彼此間的交叉污染，因此每個(gè)磁靶配備獨(dú)立的擋板是不可或缺的，加上磁控槍位于頂部，樣品臺(tái)位于底部，實(shí)現(xiàn)了無污染的沉積過程。DC直流靶和RF射頻靶的結(jié)合，可以沉積幾乎所有的材料，比如Ti,Ta, Cr, W, Nb, Al, Au, Pt等金屬和WO，T aO，SiO2，Si3N4等介電材料。
主要配置與參數(shù):
1) 工藝腔室- 304L不銹鋼材質(zhì)，前開門設(shè)計(jì)，便于更換靶材，更容易靠近樣品臺(tái)和厚膜儀、熱偶、進(jìn)氣口等。配有不銹鋼篩網(wǎng)的4”直徑的觀察窗方便監(jiān)測(cè)工藝過程。腔室外壁接有分子泵，真空計(jì)，排氣
閥，進(jìn)氣口等。樣品臺(tái)可以0-20 rpm 旋轉(zhuǎn)，這大大提高了薄膜的均勻性。樣品臺(tái)最大加熱溫度600°C ，這可以提高成膜質(zhì)量。額外的空法蘭，用于升級(jí)連接其他組件。
2) 真空系統(tǒng)- 由機(jī)械泵和抽速300 l/s的分子泵組成。這樣的真空組合，可以實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)真空10-6Torr，排氣閥與真空泵間安全互鎖。
3) 樣品臺(tái): 樣品臺(tái)尺寸4.5” 直徑，可以承載一個(gè)4”直徑的樣品或多個(gè)更小的樣品。樣品臺(tái)可加熱600°C并可以每分鐘旋轉(zhuǎn)20轉(zhuǎn)，保證了成膜質(zhì)量和均勻性。樣品臺(tái)
配有擋板。
Sample holder for 4” diameter or any smaller/flat/irregular shape samples within 4” diameter range
Spring clips for holding samples
Substrate rotation (0-20 rpm)
Motorized Substrate Shutter
IR-Quartz Lamp Substrate heating up to 600°C.
4) 磁控槍- 3個(gè)直徑 3” 磁控槍, 每個(gè)槍有獨(dú)立的擋板，可以沉積介電材料，導(dǎo)體材料和半導(dǎo)體材料等。為了得到最佳的沉積速率，樣品臺(tái)和靶之間的距離可調(diào)。
THREE, 3” Angstrom Sciences IC
Magnetron Gun, FLEX Style
Three motorized shutters and shields for sources
5) 電源功率- 2個(gè) 1200 W DC直流電源用于金屬沉積比如Ti, Ta, Cr, W, Nb, Al, Au, Pt等。一個(gè) 300 W 13.56 MHz RF射頻電源及控制和匹配網(wǎng)絡(luò)用于金屬氧化物像 ZnO, SiO2 和ITO等的沉積。射頻電源配有自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)，使反向功率最小化。
One, 300 Watt RF power supply
RF auto-matching network and controller
Two, 1200 Watt DC power supply
6) 氣路-兩路氣路帶有質(zhì)量流量控制器、截止閥，用于Argon氬氣和 Oxygen氧氣或其他工藝氣體。
Two mass flow controllers for Argon and other process gases (Non-Corrosive & Non-Hazardous)
7) 真空計(jì)- 全量程真空計(jì)測(cè)量范圍760 ~ 10-9 Torr。能夠測(cè)量真空和濺射時(shí)氬氣
的壓力。
Full range combination gauge, cold cathode and convection enhance Pirani gauge,
measuring from 760 to 10-9 Torr with Torr International readout.
8) 膜厚儀 FTM 2000- 兩個(gè)水冷石英晶體膜厚儀，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)沉積速率和膜厚。
FTM-2000 for display and control
Two water cooled quartz crystal thickness sensor with cable oscillator
9) 控制面板- 容易控制，安全互鎖，便于維護(hù)。所有工藝參數(shù)都可在前面板實(shí)時(shí)顯示。
Interlocked controls for safety
Displays and operating parameters
10）水電氣要求-
電力：所有的泵、控制器和電源功率需要 220V, single phase, 50 Hz。
水：需要9 l/min at 18-22°C and 3-4 atm冷卻水或者配備冷水機(jī)用于磁控槍、膜厚儀和分子泵的冷卻。
氣：5atm壓縮空氣，排氣建議使用1 atm干燥氮?dú)狻?br/>220V, 50Hz, 20Amp, single phase (subject to change based on final configuration)
Process gases 1 atm, ¼” tube, Swagelok Fitting or Pisco Fitting
Compressed Air, at 5-6atm
Water at 18-22oC, 3-4 atm, 9 l/min, 3/8” tube Pisco Fitting
Dry Nitrogen for venting, regulated at 1 atm, ¼” tube Pisco Fitting |
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| 會(huì)員級(jí)別：免費(fèi)會(huì)員 |
| 加入時(shí)間：2015-01-27
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